보통 습식집진장치라고 하며 유해가스 및 화학물질 처리용이다.
액적, 액막, 기포등에 의해 함진가스를 세정하여 입자에 부착, 입자 상호간의 응집을 촉진시켜 직접 가스의 흐름으로부터 입자를 분리시키는 장치이다.
미세분진의 포집효율이 높고 2차 분진 처리 불필요.
고온, 고압가스취급 가능. (가스 폭발 위험감소)
분진 및 가스(특히 습한 가스) 동시 처리가능.
설치비가 저렴하고 (페수처리 미설치시) 설치공간이 적음.
부식성가스, mist 환수 가능.
BED 및 Plates의 Plugging 초래.
액적에 입자가 충돌하여 부착.
미립자 확산에 의한 입자간 응집.
배기가스의 증습에 의한 입자간 응집.
입자를 핵으로 증기의 응결 및 응집성 촉진.
액막, 기포에 입자가 접촉하여 부착. (사용되는 액체는 주로 물이지만 경우에 따라서 표면활성제를 사용하기도 한다.
최종적으로 Mist가 인근지역으로 비산되는 것을 방지하기 위하여 Dimistor를 설치하는 것이 좋다.)
도금 시설, 산세척 및 수세 시설, 피막처리 시설, 부식성 GAS 발생 시설/
아연 용융 도금, 열처리 시설/
수용성 분진 발생 시설(제약, 식품)/